“芯战”之不得不知的IP攻防策略之一—集成电路布图设计

A:集成电路布图设计专有权是根据《集成电路布图设计保护条例》对具有独创性的集成电路布图设计进行保护的一种知识产权。它与专利权、著作权等一样，是知识产权的分支。

布图设计权的保护期限为10年，自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业使用之日计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受到保护。

A:结合本案，最高法首先依据保护条例及实施细则中的相关规定，结合司法实践中的既有审判规则，明确了布图设计权的保护对象。

保护条例第二条第一项、第二项分布规定了集成电路和集成电路布图设计的概念，构成了布图设计专有权保护对象。

集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；集成电路布图设计，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。

保护条例中第五条规定，对集成电路布图设计的保护，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。 

根据上述规定，布图设计应当包含以下内容：两个以上半导体元件，且至少有一个有源元件；互连线路；元件的大小、位置及其互相的空间位置关系；各互连线路的尺寸大小、位置、走向及其互相的空间位置关系；元件与元件、元件与连线的连接关系等；且在基片上制造的这些元件、连线组成的电路应当能够执行某种电子功能。进行布图设计创作是为了制造具有某种电子功能的集成电路产品，设计者根据选定的某种集成电路制造技术、工艺的要求，对制造集成电路中各元件、连线时需要进行技术处理的基片中各相应区域的物理尺寸、空间位置等以图样形式进行定义。 

根据保护的程度将保护分为三个层次：

第一层次为仅保护布图设计；

第二层次为同时保护布图设计和含有该布图设计的集成电路；

第三层次为不仅保护布图设计和含有该布图设计的集成电路，还保护含前述集成电路的产品。

A:申请布图设计登记，必须提交布图设计的复制件或者图样，复制件或图样是登记授权的必要条件，而复制件或者图样的电子版本、集成电路样品提交与否并不是获得授权的必要条件。

形式条件：

保护条例第8条规定，布图设计专有权经国知局登记产生。未经登记的布图设计不受本条例保护。由此可见，集成电路布图设计专有权采用的登记保护主义。也就是说，一件集成电路布图设计要取得专有权，集成电路布图设计权人须依法向国知局履行登记手续。依法登记是保护布图设计获得保护的先决条件。

提交的材料

保护条例第十六条规定，申请布图设计登记应当提交：（一）布图设计登记申请表；（二）布图设计的复制件或者图样；（三）集成电路布图设计未投入商业利用的，提交含有该集成电路布图设计的集成电路样品。集成电路布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交 4件含有该集成电路布图设计的集成电路样品；（四）国知局规定的其他材料。 

登记申请不能超出法定时限

保护条例第十七条规定，布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内,未向国知局提出登记申请的,国知局不再予以登记。

实质条件：

从本案中可以了解到：虽然在相关法律中没有明确规定充分公开这个概念，但从侵权判断的角度可以推知，要想集成电路布图设计得到保护，必须充分公开。

充分公开可以参考专利中的相关规定，专利就是以公开换保护，集成电路布图设计专有权也可以专利的角度进行理解，以有期限的保护换取社会公众对先进技术的接触。如果申请人不充分公开其布图设计即可获得专有权保护，则势必不符合相关制度。

另外，集成电路布图设计的侵权判断需要比对被控侵权产品的布图设计与申请登记的布图设计。若申请登记的布图设计没有充分公开，那么侵权判断将失去比对基础，权利人也不可能得到任何保护。但是充分公开并不代表着全部公开，在登记时，可以选择不想公开的部分作为保密信息。

不仅需要满足充分公开，在保护条例的第四条还规定：受保护的布图设计应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。

A:保护条例第7条规定，布图设计权利人享有下列专有权：(一)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制；(二)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。

保护条例第30条规定，除本条例另有规定的外，未经布图设计权利人许可，有下列行为之一的，行为人必须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任：(一)复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的；(二)为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的。

由上述规定可知，布图设计权利人对布图设计的全部或者任何具备独创性的部分，均享有复制权及商业利用的权利。除保护条例另有规定之外，未经权利人许可，对布图设计的全部或者任何具备独创性的部分进行复制或者商业利用，均侵犯权利人的布图设计专有权。

根据保护条例第7条、第30条第1款第（一）项的规定，布图设计权利人对布图设计享有复制权和商业利用的权利，复制受保护的布图设计的全部或者任何具有独创性部分的，行为人必须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任。

由此可知，布图设计权利人可以以布图设计的全部主张其专有权，也可以以其中任何具有独创性的部分主张其专有权。

因此，确定布图设计的保护范围，应当确认以下问题：

（1）应当确定布图设计专有权的客观载体；

（2）根据客观载体载明的布图设计，结合当事人的主张，确定在具体案件是使用布图设计的全部、还是使用具有独创性的部分，作为其权利主张的基础。

保护条例和《实施细则》都没有要求布图设计在登记时应指明其独创性；因此，根据保护条例第30条的规定，布图设计中任何具备独创性的部分都应该得到保护。

保护条例第30条规定了布图设计权利人的排他性权利，包括复制权和商业利用权。就复制权而言，未经权利人许可，复制得到保护的布图设计的全部或任何部分都构成侵权，以布图设计的独创性部分为限。如果他人复制的是不符合原创性要求的布图设计部分，则不构成对复制权的侵害。就商业利用权而言，为商业目的进口、销售或分销受保护的布图设计或含有受保护的布图设计的集成电路或含有集成电路的物品，属于权利人的排他性权利。

A:1、未经集成电路布图设计权利人许可，使用其集成电路布图设计，即侵犯集成电路布图设计专有权，引起纠纷的，由当事人协商解决；

2、不愿协商或者协商不成的，布图设计权利人或者厉害关系人可以向人民法院起诉，也可以请求国知局处理；

3、国知局处理时，认定侵权行为成立的，可以责令侵权人立即停止侵权行为，没收、销毁侵权产品或者物品，当事人不服的，可以自收到处理通知之日起15日内依照《行政诉讼法》向人民法院起诉；侵权人期满不起诉又不停止侵权行为的，国知局可以请求人民法院强制执行；

4、应当事人的请求，国知局可以就侵权布图设计专有权的赔偿数额进行调解；调解不成的，当事人可以依照《民事诉讼法》向人民法院起诉。